河南機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)廠家

HUE-T231大型高速回轉(zhuǎn)裝備超精密裝配測(cè)量?jī)x(單立柱雙通道)由哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開發(fā)。主要用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)、艦船發(fā)動(dòng)機(jī)和電站燃機(jī)機(jī)匣、轉(zhuǎn)子、葉盤組件，盤、軸類零件和回轉(zhuǎn)體零部件的跳動(dòng)、極值位置、同心度、圓度、平面度、垂直度和同軸度的檢測(cè)，并對(duì)檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行記錄、存儲(chǔ)、并建立數(shù)據(jù)庫(kù)，通過計(jì)算機(jī)對(duì)誤差數(shù)據(jù)進(jìn)行評(píng)價(jià)和分析，***終得出正確的測(cè)量結(jié)果并出具測(cè)試報(bào)告。

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在保證焦斑質(zhì)量的同時(shí)，可獲得大的曝光區(qū)域;引入光強(qiáng)宏微雙重調(diào)制裝置，提高了曝光光強(qiáng)的調(diào)制分辨力，從而解決控制輪廓精度的問題;通過空間光調(diào)制器依據(jù)像素部對(duì)寫入激光分束，解決了多光路并行同步直寫光束的控制問題。該技術(shù)特別適用于微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件制作，具有大范圍、高精度激光寫入的優(yōu)點(diǎn)。研究目的：研究一種基于多個(gè)子孔徑干涉拼接的全域非球面超精密測(cè)量技術(shù)，解決干涉儀測(cè)量范圍受限和分辨率受限問題，實(shí)現(xiàn)局部變化較大的凸凹面深度非球面面型的高精度測(cè)量。

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中小企業(yè)是德國(guó)經(jīng)濟(jì)的重要支柱。它們從不“嫌棄”自己的產(chǎn)品和領(lǐng)域不夠“高大上”，而是孜孜不倦，力求把產(chǎn)品做到極致，達(dá)到世界領(lǐng)先水平，因此這些企業(yè)也被冠以“隱形冠軍”的美名。曾參觀過德國(guó)一家生產(chǎn)工業(yè)風(fēng)扇的中小企業(yè)，為了檢測(cè)風(fēng)扇運(yùn)行時(shí)的噪音，特意建造了先進(jìn)的靜音實(shí)驗(yàn)室，置身其中，可以聽到自己心跳的聲音。為提升品質(zhì)舍得投入，敢于投入，這樣的產(chǎn)品無(wú)疑具有強(qiáng)大的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力。如果說責(zé)任感和完美主義貫穿于德國(guó)企業(yè)文化的始終，那么家庭傳承則為此打下了重要的基礎(chǔ)。

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儀器特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)：我公司生產(chǎn)的系列圓柱度測(cè)量?jī)x完全擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，具有測(cè)量精度高、重復(fù)性好、儀器功能模塊化、中文操作界面等優(yōu)點(diǎn)，能夠?qū)?、大型、重型及特殊形狀回轉(zhuǎn)體類零件的圓度、圓柱度、直線度、垂直度、同軸度和同心度等幾何參量進(jìn)行測(cè)量，并能進(jìn)行相關(guān)分析?？蓮V泛用于航空航天、船舶、國(guó)防、汽車、軸承等各類精密裝備制造領(lǐng)域?；?標(biāo)準(zhǔn)型圓柱度測(cè)量?jī)x可用于計(jì)量部門，開展圓柱度量值的傳遞與溯源工作，基準(zhǔn)型圓柱度測(cè)量?jī)x(圖1)的主要技術(shù)指標(biāo)詳見技術(shù)參數(shù)。

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核心技術(shù)指標(biāo)通過國(guó)家量?jī)x產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè)主要核心技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同類產(chǎn)品領(lǐng)先水平我公司該產(chǎn)品目前已有18種適應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)合的的型號(hào)產(chǎn)品; 在航天、國(guó)防和高端超精密裝備制造領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，可解決我國(guó)高端超精密裝備研制、生產(chǎn)和使用中的隔微振技術(shù)難題。隨著我國(guó)的裝備制造業(yè)向中高端發(fā)展，HUE-G2631將在我國(guó)發(fā)展該類高端超精密裝備發(fā)揮重大作用。航天發(fā)動(dòng)機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)陣列式氣膜微孔、燃料微噴嘴氣浮設(shè)備陣列式微孔氣足、陣列式節(jié)流微孔光東引導(dǎo)微口徑約束、針孔光闌m科學(xué)實(shí)驗(yàn)研究校準(zhǔn)溯源、工藝改進(jìn)

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基本原理：干涉儀對(duì)深度非球面元件進(jìn)行多次局部檢測(cè)，兩次測(cè)量區(qū)域之間有一定的重疊。將每?jī)纱螜z測(cè)重疊部分的相位值經(jīng)過擬合統(tǒng)一到一個(gè)曲面上，這樣可不斷地將測(cè)量范圍擴(kuò)大，從而獲得整個(gè)待測(cè)元件表面輪廓。拼接的理論依據(jù)是在重疊區(qū)域內(nèi)，兩次測(cè)量得到的波前相位值是一致的，即兩次測(cè)量相位數(shù)據(jù)位于同一個(gè)曲面上。而在實(shí)際測(cè)量過程中，則需要傾斜、位移、離焦和振動(dòng)干擾等誤差影響，并依據(jù)一種高精度的多子孔徑干涉拼接測(cè)量模型，實(shí)現(xiàn)全域凸凹深度非球面形狀的測(cè)量與評(píng)定。