上海機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)廠家
發(fā)布時(shí)間:2023-01-08 01:34:45上海機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)廠家
其原理如圖所示。寫入激光經(jīng)過調(diào)制穩(wěn)光、準(zhǔn)直擴(kuò)束后,平行入射到DMD上,被其調(diào)制編碼、分束成獨(dú)立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后,被微光學(xué)陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺(tái)上,從而實(shí)現(xiàn)寫入曝光;在寫入光被調(diào)制的同時(shí),基底平臺(tái)作光柵或回轉(zhuǎn)掃描,實(shí)現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的曝光制作??茖W(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值:利用微光學(xué)陣列替換傳統(tǒng)的直寫物鏡,實(shí)現(xiàn)多光路并行同步寫入,有效提高了寫入效率;同時(shí)由于微光學(xué)透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比,像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑,可極大地提高寫入分辨力。
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015年6月8日下午15:40至16:20,上海市市長(zhǎng)楊雄一行在黑龍江省省長(zhǎng)陸昊、哈爾濱市委書記陳海波,哈爾濱工業(yè)大學(xué)校長(zhǎng)周玉等領(lǐng)導(dǎo)的陪同下來到哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司進(jìn)行考察。該公司是哈爾濱工業(yè)大學(xué)超精密光電儀器工程研究所在哈爾濱松北區(qū)建成的高端超精密儀器產(chǎn)業(yè)化基地。在考察過程中,譚久彬教授向陸昊省長(zhǎng)和楊雄市長(zhǎng)等領(lǐng)導(dǎo)詳細(xì)介紹了研究所與該產(chǎn)業(yè)化基地構(gòu)成的產(chǎn)學(xué)研一體化運(yùn)作模式,研究所完成的一批完全自主創(chuàng)新的大型高端超精密儀器研發(fā)成果在產(chǎn)業(yè)化方面取得的重要進(jìn)展。
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圓柱度測(cè)量?jī)x是我公司生產(chǎn)的專業(yè)化、系列化產(chǎn)品之一,至今已有近三十余年的歷史。產(chǎn)品包括:大型圓柱度測(cè)量?jī)x、精密/超精密型圓柱度測(cè)量?jī)x、基/標(biāo)準(zhǔn)型圓柱度測(cè)量?jī)x,已形成系列化產(chǎn)品,解決了多項(xiàng)國(guó)家重大裝備造項(xiàng)目中核心器部件的關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)測(cè)量難題;并在我國(guó)航空航天、國(guó)防和精密裝備造領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。與其直接相關(guān)的技術(shù)已獲100余項(xiàng)發(fā)明專利。此外,我公司可為客戶定制一些特殊需求的專用精密/超精密光機(jī)電一體化測(cè)量?jī)x器、測(cè)試設(shè)備和試驗(yàn)裝備等。
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即向上下游產(chǎn)業(yè)延伸、產(chǎn)品要向研發(fā)設(shè)計(jì)的高端和用戶服務(wù)延伸;要著力發(fā)展高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)集群,重點(diǎn)支持創(chuàng)新成果的產(chǎn)業(yè)化和商品化;要促進(jìn)生產(chǎn)型、科技型服務(wù)業(yè)發(fā)展,特別要加強(qiáng)在研發(fā)資源共享、技術(shù)交易、孵化器等方面的工作力度;創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)的根本是人才,要想盡辦法留住工程技術(shù)、管理、技術(shù)工人等各類人才。座談會(huì)上,郝會(huì)龍向調(diào)研組匯報(bào)了我省裝備制造業(yè)的基本情況、發(fā)展特點(diǎn)、主要工作和成果以及面臨的主要問題。建議國(guó)家進(jìn)一步統(tǒng)籌裝備制造業(yè)發(fā)展布局;支持黑龍江省發(fā)展股份合作農(nóng)業(yè)和農(nóng)業(yè)產(chǎn)業(yè)化經(jīng)營(yíng);
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由我公司承擔(dān)的上海微電子裝備有限公司(SMEE)的光刻機(jī)計(jì)量框架和基礎(chǔ)框架制造任務(wù)于2017年2月13日通過預(yù)驗(yàn)收與交付,這標(biāo)志著我公司對(duì)于精密復(fù)雜構(gòu)件的制造能力提升至一個(gè)新的臺(tái)階。光刻機(jī)被稱為“智能制造業(yè)中的珠穆朗瑪峰”,其中的計(jì)量框架是整個(gè)光刻機(jī)的工作基準(zhǔn)平臺(tái),尺寸龐大(2.2m′1.9m),結(jié)構(gòu)復(fù)雜,僅定位銷孔一百二十多個(gè);螺紋孔四百多個(gè);基礎(chǔ)框架是整個(gè)光刻機(jī)的基本支持體,尺寸達(dá)2.75m′1.86m′1.37m,其螺紋孔有三百多個(gè)。計(jì)量框架與基礎(chǔ)框架中對(duì)任何加工部位的位置、形狀、尺寸、表面形貌等要求相當(dāng)高,正常的制造周期為6個(gè)月。