長(zhǎng)春超精密氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)定制

調(diào)研組將通過(guò)調(diào)研，為國(guó)家制定支持裝備制造業(yè)振興的政策措施建言獻(xiàn)策，幫助解決發(fā)展中面臨的矛盾和問(wèn)題。萬(wàn)鋼指出，創(chuàng)新要有信心和決心，裝備制造業(yè)是黑龍江省的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和支柱產(chǎn)業(yè)，具有濃厚的產(chǎn)業(yè)文化、深厚的產(chǎn)業(yè)傳統(tǒng)、完善的產(chǎn)業(yè)隊(duì)伍和一個(gè)有利于產(chǎn)業(yè)發(fā)展的環(huán)境，進(jìn)而形成了綜合優(yōu)勢(shì)，再借助豐富的資源，就可以形成具有龍江特色的產(chǎn)業(yè)集群。他強(qiáng)調(diào)，要推動(dòng)產(chǎn)業(yè)走向高端，支持龍頭骨干企業(yè)，依托重大工程，著力提升自主創(chuàng)新、開(kāi)拓市場(chǎng)能力;支持新興產(chǎn)業(yè)搶占高峰，著力加強(qiáng)創(chuàng)新能力的建設(shè);要拉動(dòng)產(chǎn)業(yè)向“兩頭”延伸

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HUE-T231大型高速回轉(zhuǎn)裝備超精密裝配測(cè)量?jī)x(單立柱雙通道)由哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開(kāi)發(fā)。主要用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)、艦船發(fā)動(dòng)機(jī)和電站燃機(jī)機(jī)匣、轉(zhuǎn)子、葉盤(pán)組件，盤(pán)、軸類零件和回轉(zhuǎn)體零部件的跳動(dòng)、極值位置、同心度、圓度、平面度、垂直度和同軸度的檢測(cè)，并對(duì)檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行記錄、存儲(chǔ)、并建立數(shù)據(jù)庫(kù)，通過(guò)計(jì)算機(jī)對(duì)誤差數(shù)據(jù)進(jìn)行評(píng)價(jià)和分析，***終得出正確的測(cè)量結(jié)果并出具測(cè)試報(bào)告。

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由于SMEE的任務(wù)要求緊張，我公司僅用了三個(gè)月的時(shí)間完成了制造任務(wù)。2017年2月初，SMEE的質(zhì)量控制人員、設(shè)計(jì)人員、工藝人員在我公司進(jìn)行了驗(yàn)收測(cè)試，歷經(jīng)5天的時(shí)間完成了整個(gè)測(cè)試。產(chǎn)品經(jīng)過(guò)清潔、包裝等工作，于2017年2月15日由專車運(yùn)往上海。新春伊始北京大學(xué)教授、中國(guó)科學(xué)院程和平院士一行在完成了對(duì)哈工大的訪問(wèn)之后,于2017年2月15日,在譚久彬的陪同下到我公司參觀考察。程和平院士一行聽(tīng)取了譚久彬教授關(guān)于公司基礎(chǔ)能力、研發(fā)能力、生產(chǎn)能力、典型產(chǎn)品等情況的介紹，考察了極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝專項(xiàng)、國(guó)家重大科學(xué)儀器研發(fā)專項(xiàng)等的研制情況。

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在保證焦斑質(zhì)量的同時(shí)，可獲得大的曝光區(qū)域;引入光強(qiáng)宏微雙重調(diào)制裝置，提高了曝光光強(qiáng)的調(diào)制分辨力，從而解決控制輪廓精度的問(wèn)題;通過(guò)空間光調(diào)制器依據(jù)像素部對(duì)寫(xiě)入激光分束，解決了多光路并行同步直寫(xiě)光束的控制問(wèn)題。該技術(shù)特別適用于微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件制作，具有大范圍、高精度激光寫(xiě)入的優(yōu)點(diǎn)。研究目的：研究一種基于多個(gè)子孔徑干涉拼接的全域非球面超精密測(cè)量技術(shù)，解決干涉儀測(cè)量范圍受限和分辨率受限問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)局部變化較大的凸凹面深度非球面面型的高精度測(cè)量。

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HUE-X931是哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開(kāi)發(fā)的新一代高空間分辨率光學(xué)共焦顯微鏡。 產(chǎn)品系大型高端科學(xué)儀器，綜合了國(guó)內(nèi)外優(yōu)勢(shì)技術(shù)方案，技術(shù)密集度極高，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)各類樣品表面微結(jié)構(gòu)的高分辨率三維測(cè)量。使用環(huán)境，溫度要求：20℃±1℃;濕度要求：小于60%RH;隔振要求：儀器應(yīng)放在隔振基礎(chǔ)上，周圍無(wú)劇烈振動(dòng)和沖擊;電磁場(chǎng)要求：使用現(xiàn)場(chǎng)周圍無(wú)強(qiáng)電磁干擾。