昆明航空發(fā)動(dòng)機(jī)測(cè)試儀廠家

專家稱，精密檢測(cè)儀器本身是整個(gè)行業(yè)的糧草，而軟件則又是儀器的核心。所以我們要想讓整個(gè)的精密檢測(cè)儀器行業(yè)的發(fā)展取得長(zhǎng)足的進(jìn)步，那么我們就要保證精密測(cè)量軟件的不斷更新和發(fā)展，為儀器的檢測(cè)提供技術(shù)的支持。隨著國(guó)際市場(chǎng)需求的不斷擴(kuò)大，與人們生活息息相關(guān)的試驗(yàn)機(jī)行業(yè)也得到了迅猛的發(fā)展，但由于技術(shù)及創(chuàng)新等方面的原因，國(guó)內(nèi)試驗(yàn)機(jī)行業(yè)與國(guó)外仍有巨大的差距，關(guān)鍵核心技術(shù)匱乏，低水平重復(fù)，產(chǎn)品的穩(wěn)定性及可靠性得不到根本的解決，在高端精密儀器上仍嚴(yán)重依賴進(jìn)口，大量進(jìn)口對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展造成不利影響。

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中小企業(yè)是德國(guó)經(jīng)濟(jì)的重要支柱。它們從不“嫌棄”自己的產(chǎn)品和領(lǐng)域不夠“高大上”，而是孜孜不倦，力求把產(chǎn)品做到極致，達(dá)到世界領(lǐng)先水平，因此這些企業(yè)也被冠以“隱形冠軍”的美名。曾參觀過(guò)德國(guó)一家生產(chǎn)工業(yè)風(fēng)扇的中小企業(yè)，為了檢測(cè)風(fēng)扇運(yùn)行時(shí)的噪音，特意建造了先進(jìn)的靜音實(shí)驗(yàn)室，置身其中，可以聽到自己心跳的聲音。為提升品質(zhì)舍得投入，敢于投入，這樣的產(chǎn)品無(wú)疑具有強(qiáng)大的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力。如果說(shuō)責(zé)任感和完美主義貫穿于德國(guó)企業(yè)文化的始終，那么家庭傳承則為此打下了重要的基礎(chǔ)。

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在保證焦斑質(zhì)量的同時(shí)，可獲得大的曝光區(qū)域;引入光強(qiáng)宏微雙重調(diào)制裝置，提高了曝光光強(qiáng)的調(diào)制分辨力，從而解決控制輪廓精度的問(wèn)題;通過(guò)空間光調(diào)制器依據(jù)像素部對(duì)寫入激光分束，解決了多光路并行同步直寫光束的控制問(wèn)題。該技術(shù)特別適用于微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件制作，具有大范圍、高精度激光寫入的優(yōu)點(diǎn)。研究目的：研究一種基于多個(gè)子孔徑干涉拼接的全域非球面超精密測(cè)量技術(shù)，解決干涉儀測(cè)量范圍受限和分辨率受限問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)局部變化較大的凸凹面深度非球面面型的高精度測(cè)量。

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研究目的：構(gòu)建一種具有橫向光學(xué)超分辨成像特性的新型共焦顯微成像特性，解決光束合理整形問(wèn)題并突破衍射極限，實(shí)現(xiàn)一種具有橫向光學(xué)超分辨能力的共焦顯微成像技術(shù)?；驹恚簯?yīng)用二元光學(xué)器件，基于衍射原理將高斯激光光束整形為環(huán)形光束，通過(guò)設(shè)計(jì)環(huán)形光內(nèi)環(huán)半徑與外環(huán)半徑之比即環(huán)形光內(nèi)孔歸一化半徑ε，使將低頻光束頻移到高頻通帶，以減小共焦顯微鏡愛里斑的主瓣寬度，進(jìn)而達(dá)到提高其橫向分辨力和擴(kuò)展其量程范圍的目的。

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研究目的：研究一種多點(diǎn)并行曝光、且曝光面上各曝光點(diǎn)曝光可控及曝光強(qiáng)度宏微雙重可調(diào)的高分辨力的激光直接寫入新技術(shù)，以解決傳統(tǒng)激光直寫單點(diǎn)曝光制作效率低的問(wèn)題，提高微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的制作效率?；驹恚憾喙獍呖煽夭⑿屑す庵睂懙幕舅枷胧且晕⒐鈱W(xué)鏡陣列作為直寫物鏡，將寫入激光分別聚焦為多個(gè)高分辨力寫入光斑，以分散直寫任務(wù);利用數(shù)字微鏡DMD控制各子光斑是否曝光，并采用聲光調(diào)制器進(jìn)行宏微雙重調(diào)制寫入光強(qiáng)。

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由我公司承擔(dān)的上海微電子裝備有限公司(SMEE)的光刻機(jī)計(jì)量框架和基礎(chǔ)框架制造任務(wù)于2017年2月13日通過(guò)預(yù)驗(yàn)收與交付，這標(biāo)志著我公司對(duì)于精密復(fù)雜構(gòu)件的制造能力提升至一個(gè)新的臺(tái)階。光刻機(jī)被稱為“智能制造業(yè)中的珠穆朗瑪峰”，其中的計(jì)量框架是整個(gè)光刻機(jī)的工作基準(zhǔn)平臺(tái)，尺寸龐大(2.2m′1.9m)，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，僅定位銷孔一百二十多個(gè)；螺紋孔四百多個(gè)；基礎(chǔ)框架是整個(gè)光刻機(jī)的基本支持體，尺寸達(dá)2.75m′1.86m′1.37m，其螺紋孔有三百多個(gè)。計(jì)量框架與基礎(chǔ)框架中對(duì)任何加工部位的位置、形狀、尺寸、表面形貌等要求相當(dāng)高，正常的制造周期為6個(gè)月。