泉州航空發(fā)動(dòng)機(jī)測(cè)試儀定制

HUE-G2631是哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開(kāi)發(fā)的新一代大型/超大型氣浮隔微振裝置。本產(chǎn)品是超大型基礎(chǔ)性平臺(tái)設(shè)備，可用于大型/超大型精密儀器及系統(tǒng)、光學(xué)儀器及系統(tǒng)、超精密制造裝備和工作母機(jī)等高端裝備的加工、裝調(diào)、測(cè)試與使用，在支撐大型高端和尖端超精密裝備制造和使用中具有不可替代的重要作用。30余項(xiàng)中外發(fā)明專利技術(shù)授權(quán)國(guó)家科技重大專項(xiàng)推介產(chǎn)品在北京空間機(jī)電研究所(5 0 8所)、哈爾濱量具刃具集團(tuán)等單位應(yīng)用

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其原理如圖所示。寫入激光經(jīng)過(guò)調(diào)制穩(wěn)光、準(zhǔn)直擴(kuò)束后，平行入射到DMD上，被其調(diào)制編碼、分束成獨(dú)立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后，被微光學(xué)陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺(tái)上，從而實(shí)現(xiàn)寫入曝光;在寫入光被調(diào)制的同時(shí)，基底平臺(tái)作光柵或回轉(zhuǎn)掃描，實(shí)現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的曝光制作?？茖W(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：利用微光學(xué)陣列替換傳統(tǒng)的直寫物鏡，實(shí)現(xiàn)多光路并行同步寫入，有效提高了寫入效率;同時(shí)由于微光學(xué)透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比，像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑，可極大地提高寫入分辨力。

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研究目的：研究一種多點(diǎn)并行曝光、且曝光面上各曝光點(diǎn)曝光可控及曝光強(qiáng)度宏微雙重可調(diào)的高分辨力的激光直接寫入新技術(shù)，以解決傳統(tǒng)激光直寫單點(diǎn)曝光制作效率低的問(wèn)題，提高微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的制作效率?；驹恚憾喙獍呖煽夭⑿屑す庵睂懙幕舅枷胧且晕⒐鈱W(xué)鏡陣列作為直寫物鏡，將寫入激光分別聚焦為多個(gè)高分辨力寫入光斑，以分散直寫任務(wù);利用數(shù)字微鏡DMD控制各子光斑是否曝光，并采用聲光調(diào)制器進(jìn)行宏微雙重調(diào)制寫入光強(qiáng)。

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大型高速回轉(zhuǎn)裝備超精密裝配測(cè)量?jī)x由哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開(kāi)發(fā)。主要用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)、艦船發(fā)動(dòng)機(jī)和電站燃機(jī)機(jī)匣、轉(zhuǎn)子、葉盤組件，盤、軸類零件和回轉(zhuǎn)體零、部件的跳動(dòng)、極值位置、同心度、圓度、平面度、垂直度和同軸度的檢測(cè)，并對(duì)檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行記錄、存儲(chǔ)、并建立數(shù)據(jù)庫(kù)，通過(guò)計(jì)算機(jī)對(duì)誤差數(shù)據(jù)進(jìn)行評(píng)價(jià)和分析，得出正確的測(cè)量結(jié)果并出具測(cè)試報(bào)告。