廈門(mén)超精密氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)定制

超精密氣浮直線基準(zhǔn)圓柱度和直線度的測(cè)量，不僅要求儀器主軸的回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)精度高，直線運(yùn)動(dòng)基準(zhǔn)的精度要求也非常高。經(jīng)過(guò)優(yōu)化設(shè)計(jì)的圓柱度儀導(dǎo)軌結(jié)構(gòu)，提供了極高的直線運(yùn)動(dòng)精度(0.05~0.1μm/100mm)，在整體結(jié)構(gòu)上進(jìn)行了精心設(shè)計(jì)，保障了儀器整體具有非常高的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。穩(wěn)定的花崗巖基座圓柱度儀的基座采用天然花崗巖材質(zhì)，經(jīng)過(guò)億萬(wàn)年老化沉積，花崗巖材質(zhì)質(zhì)地均勻，強(qiáng)度高，應(yīng)力變形小，對(duì)溫度敏感性小。經(jīng)過(guò)精加工保證各零、部件的機(jī)械位置，基座具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和剛度。

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HUE--E1231是哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開(kāi)發(fā)的新一代高精度二維轉(zhuǎn)臺(tái)。10項(xiàng)中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)授權(quán)國(guó)家科技重大專(zhuān)項(xiàng)推介產(chǎn)品在北京空間機(jī)電研究所(508所)、沈陽(yáng)航空發(fā)動(dòng)機(jī)研究所等單位應(yīng)用HUE--E1231型高精度二維轉(zhuǎn)臺(tái)核心技術(shù)指標(biāo)均通過(guò)中國(guó)國(guó)家量?jī)x產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè)。兩軸空間垂直度優(yōu)于5秒;角回轉(zhuǎn)誤差優(yōu)于1秒;角定位誤差優(yōu)于1秒;HUE--E1231特征與優(yōu)勢(shì)高精度和大承載 采用靜壓氣浮支撐技術(shù)作為回轉(zhuǎn)軸系，轉(zhuǎn)臺(tái)軸系回轉(zhuǎn)誤差小，承載可高達(dá)數(shù)十噸。

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先進(jìn)控制策略 高精度二維轉(zhuǎn)臺(tái)采用無(wú)刷直流電機(jī)驅(qū)動(dòng);結(jié)合高精度碼盤(pán)構(gòu)成位置閉環(huán)伺服系統(tǒng)，角位置定位精度可優(yōu)于1角秒;并配有高穩(wěn)定性數(shù)顯系統(tǒng)本土化產(chǎn)品快速供應(yīng)!產(chǎn)品核心技術(shù)和部件均來(lái)自國(guó)內(nèi)，3~4個(gè)月施工完成并調(diào)試結(jié)束，無(wú)需歷經(jīng)嚴(yán)苛復(fù)雜的進(jìn)出口安全與商務(wù)審批過(guò)程!專(zhuān)家級(jí)成套解決方案!依托本公司超精密儀器與裝備工程專(zhuān)家團(tuán)隊(duì)，可提供超精密轉(zhuǎn)臺(tái)定制解決方案!

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基本原理：在傳統(tǒng)牛頓流體的雷諾方程基礎(chǔ)上，將惠普爾理論與壓力對(duì)數(shù)分布假設(shè)相結(jié)合，對(duì)傳統(tǒng)氣體潤(rùn)滑理論進(jìn)行修正和完善。建立基于動(dòng)靜壓復(fù)合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)(CTGB)的歸一化解析模型，在以剛度為目標(biāo)函數(shù)的前提下，對(duì)結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行全局優(yōu)化，從而得到基于動(dòng)靜壓復(fù)合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)參數(shù)?？茖W(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：對(duì)超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)中動(dòng)靜壓之間的耦合規(guī)律進(jìn)行建模。解析表述了動(dòng)靜壓之間的壓力耦合、結(jié)構(gòu)耦合以及壓力與結(jié)構(gòu)之間的交叉耦合。該技術(shù)大幅度提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的剛度、承載能力和抗擾動(dòng)能力，提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的綜合性能。實(shí)驗(yàn)表明：與傳統(tǒng)氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)(STGB)相比，承載能力提高4倍以上，剛度提高6倍以上，流量略有增大，性能曲線對(duì)比見(jiàn)Fig.1-3。

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研究目的：研究一種多點(diǎn)并行曝光、且曝光面上各曝光點(diǎn)曝光可控及曝光強(qiáng)度宏微雙重可調(diào)的高分辨力的激光直接寫(xiě)入新技術(shù)，以解決傳統(tǒng)激光直寫(xiě)單點(diǎn)曝光制作效率低的問(wèn)題，提高微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的制作效率?；驹恚憾喙獍呖煽夭⑿屑す庵睂?xiě)的基本思想是以微光學(xué)鏡陣列作為直寫(xiě)物鏡，將寫(xiě)入激光分別聚焦為多個(gè)高分辨力寫(xiě)入光斑，以分散直寫(xiě)任務(wù);利用數(shù)字微鏡DMD控制各子光斑是否曝光，并采用聲光調(diào)制器進(jìn)行宏微雙重調(diào)制寫(xiě)入光強(qiáng)。