長沙航空發(fā)動機(jī)測試儀廠家
發(fā)布時間:2022-09-18 01:37:26長沙航空發(fā)動機(jī)測試儀廠家
圓柱度、直線度、垂直度、同軸度和同心度等幾何參量進(jìn)行測量,并能進(jìn)行相關(guān)分析??蓮V泛用于航空航天、船舶、國防、汽車、軸承等各類精密裝備***造領(lǐng)域?;鶞?zhǔn)型圓柱度測量儀可用于計量部門,開展圓柱度量值的傳遞與溯源工作儀器特色:超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)主軸精度是圓柱度儀回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的重要指標(biāo)。經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計的圓柱度儀的空氣靜壓軸系采用本所專利技術(shù),經(jīng)特殊加工工藝研制,因此保證了儀器主軸具有超精密級的軸向與徑向回轉(zhuǎn)精度(0.015~0.05μm)、角回轉(zhuǎn)精度(0.02~0.1″)和高承載與高剛度兼顧性能,保障了儀器具有高可靠性和長久的使用壽命。
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HUE--E1231是哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開發(fā)的新一代高精度二維轉(zhuǎn)臺。10項中國發(fā)明專利技術(shù)授權(quán)國家科技重大專項推介產(chǎn)品在北京空間機(jī)電研究所(508所)、沈陽航空發(fā)動機(jī)研究所等單位應(yīng)用HUE--E1231型高精度二維轉(zhuǎn)臺核心技術(shù)指標(biāo)均通過中國國家量儀產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心檢測。兩軸空間垂直度優(yōu)于5秒;角回轉(zhuǎn)誤差優(yōu)于1秒;角定位誤差優(yōu)于1秒;HUE--E1231特征與優(yōu)勢高精度和大承載 采用靜壓氣浮支撐技術(shù)作為回轉(zhuǎn)軸系,轉(zhuǎn)臺軸系回轉(zhuǎn)誤差小,承載可高達(dá)數(shù)十噸。
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在保證焦斑質(zhì)量的同時,可獲得大的曝光區(qū)域;引入光強(qiáng)宏微雙重調(diào)制裝置,提高了曝光光強(qiáng)的調(diào)制分辨力,從而解決控制輪廓精度的問題;通過空間光調(diào)制器依據(jù)像素部對寫入激光分束,解決了多光路并行同步直寫光束的控制問題。該技術(shù)特別適用于微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件制作,具有大范圍、高精度激光寫入的優(yōu)點。研究目的:研究一種基于多個子孔徑干涉拼接的全域非球面超精密測量技術(shù),解決干涉儀測量范圍受限和分辨率受限問題,實現(xiàn)局部變化較大的凸凹面深度非球面面型的高精度測量。
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其原理如圖所示。寫入激光經(jīng)過調(diào)制穩(wěn)光、準(zhǔn)直擴(kuò)束后,平行入射到DMD上,被其調(diào)制編碼、分束成獨立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后,被微光學(xué)陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺上,從而實現(xiàn)寫入曝光;在寫入光被調(diào)制的同時,基底平臺作光柵或回轉(zhuǎn)掃描,實現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的曝光制作??茖W(xué)意義及應(yīng)用價值:利用微光學(xué)陣列替換傳統(tǒng)的直寫物鏡,實現(xiàn)多光路并行同步寫入,有效提高了寫入效率;同時由于微光學(xué)透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比,像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑,可極大地提高寫入分辨力。