蘭州機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制

該卡盤(pán)精度高、性能穩(wěn)定可靠、操作方便，在航空發(fā)動(dòng)機(jī)制造、裝調(diào)檢測(cè)和維修領(lǐng)域的應(yīng)用中得到普遍認(rèn)可。該液壓卡盤(pán)傳遞力可在<8MPa內(nèi)進(jìn)行調(diào)整，對(duì)工件的重復(fù)裝卡精度可達(dá)2~3μm;卡口尺寸按照用戶(hù)要求設(shè)計(jì)制造。轉(zhuǎn)接盤(pán)航空發(fā)動(dòng)機(jī)裝配專(zhuān)用轉(zhuǎn)接盤(pán)裝置，是根據(jù)發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)子部件的結(jié)構(gòu)尺寸和裝配工藝而專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)制造的，使用中將其安裝在超精密氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)上，并將相匹配的裝配件通過(guò)止口固定其上，即可進(jìn)行裝配、檢測(cè)(如圖所示)。

蘭州機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制

因此，高端通用試驗(yàn)儀器設(shè)備。將集中力量，重點(diǎn)突破一批我國(guó)需求量大、嚴(yán)重依賴(lài)進(jìn)口、價(jià)格昂貴的試驗(yàn)儀器設(shè)備，攻克若干試驗(yàn)儀器設(shè)備核心技術(shù)和關(guān)鍵部件，帶動(dòng)重要領(lǐng)域試驗(yàn)儀器設(shè)備整體水平提升，打破國(guó)外壟斷。第二，前沿重大試驗(yàn)儀器設(shè)備。將依據(jù)我國(guó)在世界新一輪科技革命中的戰(zhàn)略部署，研發(fā)若干具有國(guó)際領(lǐng)先水平的重大試驗(yàn)儀器設(shè)備，有效支撐我國(guó)開(kāi)展世界一流科學(xué)研究、有特色科學(xué)研究，帶動(dòng)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

蘭州機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制

圓柱度測(cè)量?jī)x是我公司生產(chǎn)的專(zhuān)業(yè)化、系列化產(chǎn)品之一，至今已有近三十余年的歷史。產(chǎn)品包括：大型圓柱度測(cè)量?jī)x、精密/超精密型圓柱度測(cè)量?jī)x、基/標(biāo)準(zhǔn)型圓柱度測(cè)量?jī)x，已形成系列化產(chǎn)品，解決了多項(xiàng)國(guó)家重大裝備造項(xiàng)目中核心器部件的關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)測(cè)量難題;并在我國(guó)航空航天、國(guó)防和精密裝備造領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。與其直接相關(guān)的技術(shù)已獲100余項(xiàng)發(fā)明專(zhuān)利。此外，我公司可為客戶(hù)定制一些特殊需求的專(zhuān)用精密/超精密光機(jī)電一體化測(cè)量?jī)x器、測(cè)試設(shè)備和試驗(yàn)裝備等。

蘭州機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制

適用于實(shí)驗(yàn)室和車(chē)間環(huán)境;電壓：220V或380V交流電壓，50Hz;氣源：0.4MPa的過(guò)濾干燥空氣;溫度：20℃±5℃;濕度：<60%;其他：避免酸堿等腐蝕性氣體浸蝕HUE--D1331系列超精密氣浮導(dǎo)軌主要采用花崗巖、金屬或陶瓷制作，配有精密導(dǎo)軌基體、氣浮套和高潔凈空氣凈化器。采用多項(xiàng)發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)進(jìn)行高精度、高剛度結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和氣體潤(rùn)滑及支撐參數(shù)設(shè)計(jì)，使導(dǎo)軌兼有高精度、高剛度和高承載的特點(diǎn);并使導(dǎo)軌工作狀態(tài)平穩(wěn)，在運(yùn)動(dòng)和定位狀態(tài)下均無(wú)氣體紊流振動(dòng)、嘯叫、噪聲及高頻微振等。控制特性分為有驅(qū)動(dòng)和無(wú)驅(qū)動(dòng)兩種，按其需要進(jìn)行驅(qū)動(dòng)配置。

蘭州機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制

其原理如圖所示。寫(xiě)入激光經(jīng)過(guò)調(diào)制穩(wěn)光、準(zhǔn)直擴(kuò)束后，平行入射到DMD上，被其調(diào)制編碼、分束成獨(dú)立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后，被微光學(xué)陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺(tái)上，從而實(shí)現(xiàn)寫(xiě)入曝光;在寫(xiě)入光被調(diào)制的同時(shí)，基底平臺(tái)作光柵或回轉(zhuǎn)掃描，實(shí)現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的曝光制作?？茖W(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：利用微光學(xué)陣列替換傳統(tǒng)的直寫(xiě)物鏡，實(shí)現(xiàn)多光路并行同步寫(xiě)入，有效提高了寫(xiě)入效率;同時(shí)由于微光學(xué)透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比，像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑，可極大地提高寫(xiě)入分辨力。