濟南超精密氣浮轉(zhuǎn)臺廠家

基本原理：在傳統(tǒng)牛頓流體的雷諾方程基礎(chǔ)上，將惠普爾理論與壓力對數(shù)分布假設(shè)相結(jié)合，對傳統(tǒng)氣體潤滑理論進行修正和完善。建立基于動靜壓復(fù)合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)(CTGB)的歸一化解析模型，在以剛度為目標(biāo)函數(shù)的前提下，對結(jié)構(gòu)參數(shù)進行全局優(yōu)化，從而得到基于動靜壓復(fù)合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)參數(shù)。科學(xué)意義及應(yīng)用價值：對超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)中動靜壓之間的耦合規(guī)律進行建模。解析表述了動靜壓之間的壓力耦合、結(jié)構(gòu)耦合以及壓力與結(jié)構(gòu)之間的交叉耦合。該技術(shù)大幅度提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的剛度、承載能力和抗擾動能力，提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的綜合性能。實驗表明：與傳統(tǒng)氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)(STGB)相比，承載能力提高4倍以上，剛度提高6倍以上，流量略有增大，性能曲線對比見Fig.1-3。

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當(dāng)然，對于精密檢測儀器這個國內(nèi)新興的行業(yè)來說，也會有高潮和低谷的存在，因此，企業(yè)需要有一個發(fā)展的規(guī)劃，這樣才能帶領(lǐng)行業(yè)不斷的超越和發(fā)展，最終成為領(lǐng)域里的領(lǐng)頭羊。業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為，我國精密檢測技術(shù)和儀器的現(xiàn)狀仍然不甚理想，主要原因在于此類研發(fā)企業(yè)在國內(nèi)是稀缺資源。隨著中國工業(yè)自動化和產(chǎn)業(yè)升級的發(fā)展趨勢，定向研發(fā)的精密檢測儀器在工業(yè)檢測領(lǐng)域?qū)⒂泻艽蟮氖袌隹臻g，與此同時，中國要成為工業(yè)強國，也必須重視研發(fā)與創(chuàng)新。

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其原理如圖所示。寫入激光經(jīng)過調(diào)制穩(wěn)光、準(zhǔn)直擴束后，平行入射到DMD上，被其調(diào)制編碼、分束成獨立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后，被微光學(xué)陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺上，從而實現(xiàn)寫入曝光;在寫入光被調(diào)制的同時，基底平臺作光柵或回轉(zhuǎn)掃描，實現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的曝光制作?？茖W(xué)意義及應(yīng)用價值：利用微光學(xué)陣列替換傳統(tǒng)的直寫物鏡，實現(xiàn)多光路并行同步寫入，有效提高了寫入效率;同時由于微光學(xué)透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比，像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑，可極大地提高寫入分辨力。

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研究目的：研究一種多點并行曝光、且曝光面上各曝光點曝光可控及曝光強度宏微雙重可調(diào)的高分辨力的激光直接寫入新技術(shù)，以解決傳統(tǒng)激光直寫單點曝光制作效率低的問題，提高微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的制作效率?；驹恚憾喙獍呖煽夭⑿屑す庵睂懙幕舅枷胧且晕⒐鈱W(xué)鏡陣列作為直寫物鏡，將寫入激光分別聚焦為多個高分辨力寫入光斑，以分散直寫任務(wù);利用數(shù)字微鏡DMD控制各子光斑是否曝光，并采用聲光調(diào)制器進行宏微雙重調(diào)制寫入光強。