石家莊機(jī)械轉(zhuǎn)臺(tái)定制

調(diào)研組將通過(guò)調(diào)研，為國(guó)家制定支持裝備制造業(yè)振興的政策措施建言獻(xiàn)策，幫助解決發(fā)展中面臨的矛盾和問(wèn)題。萬(wàn)鋼指出，創(chuàng)新要有信心和決心，裝備制造業(yè)是黑龍江省的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和支柱產(chǎn)業(yè)，具有濃厚的產(chǎn)業(yè)文化、深厚的產(chǎn)業(yè)傳統(tǒng)、完善的產(chǎn)業(yè)隊(duì)伍和一個(gè)有利于產(chǎn)業(yè)發(fā)展的環(huán)境，進(jìn)而形成了綜合優(yōu)勢(shì)，再借助豐富的資源，就可以形成具有龍江特色的產(chǎn)業(yè)集群。他強(qiáng)調(diào)，要推動(dòng)產(chǎn)業(yè)走向高端，支持龍頭骨干企業(yè)，依托重大工程，著力提升自主創(chuàng)新、開(kāi)拓市場(chǎng)能力;支持新興產(chǎn)業(yè)搶占高峰，著力加強(qiáng)創(chuàng)新能力的建設(shè);要拉動(dòng)產(chǎn)業(yè)向“兩頭”延伸

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核心技術(shù)指標(biāo)通過(guò)國(guó)家量?jī)x產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測(cè)主要核心技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同類產(chǎn)品領(lǐng)先水平我公司該產(chǎn)品目前已有18種適應(yīng)不同應(yīng)用場(chǎng)合的的型號(hào)產(chǎn)品; 在航天、國(guó)防和高端超精密裝備制造領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，可解決我國(guó)高端超精密裝備研制、生產(chǎn)和使用中的隔微振技術(shù)難題。隨著我國(guó)的裝備制造業(yè)向中高端發(fā)展，HUE-G2631將在我國(guó)發(fā)展該類高端超精密裝備發(fā)揮重大作用。航天發(fā)動(dòng)機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)陣列式氣膜微孔、燃料微噴嘴氣浮設(shè)備陣列式微孔氣足、陣列式節(jié)流微孔光東引導(dǎo)微口徑約束、針孔光闌m科學(xué)實(shí)驗(yàn)研究校準(zhǔn)溯源、工藝改進(jìn)

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研究目的：構(gòu)建一種具有橫向光學(xué)超分辨成像特性的新型共焦顯微成像特性，解決光束合理整形問(wèn)題并突破衍射極限，實(shí)現(xiàn)一種具有橫向光學(xué)超分辨能力的共焦顯微成像技術(shù)?；驹恚簯?yīng)用二元光學(xué)器件，基于衍射原理將高斯激光光束整形為環(huán)形光束，通過(guò)設(shè)計(jì)環(huán)形光內(nèi)環(huán)半徑與外環(huán)半徑之比即環(huán)形光內(nèi)孔歸一化半徑ε，使將低頻光束頻移到高頻通帶，以減小共焦顯微鏡愛(ài)里斑的主瓣寬度，進(jìn)而達(dá)到提高其橫向分辨力和擴(kuò)展其量程范圍的目的。

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中小企業(yè)是德國(guó)經(jīng)濟(jì)的重要支柱。它們從不“嫌棄”自己的產(chǎn)品和領(lǐng)域不夠“高大上”，而是孜孜不倦，力求把產(chǎn)品做到極致，達(dá)到世界領(lǐng)先水平，因此這些企業(yè)也被冠以“隱形冠軍”的美名。曾參觀過(guò)德國(guó)一家生產(chǎn)工業(yè)風(fēng)扇的中小企業(yè)，為了檢測(cè)風(fēng)扇運(yùn)行時(shí)的噪音，特意建造了先進(jìn)的靜音實(shí)驗(yàn)室，置身其中，可以聽(tīng)到自己心跳的聲音。為提升品質(zhì)舍得投入，敢于投入，這樣的產(chǎn)品無(wú)疑具有強(qiáng)大的國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力。如果說(shuō)責(zé)任感和完美主義貫穿于德國(guó)企業(yè)文化的始終，那么家庭傳承則為此打下了重要的基礎(chǔ)。

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由我公司承擔(dān)的上海微電子裝備有限公司(SMEE)的光刻機(jī)計(jì)量框架和基礎(chǔ)框架制造任務(wù)于2017年2月13日通過(guò)預(yù)驗(yàn)收與交付，這標(biāo)志著我公司對(duì)于精密復(fù)雜構(gòu)件的制造能力提升至一個(gè)新的臺(tái)階。光刻機(jī)被稱為“智能制造業(yè)中的珠穆朗瑪峰”，其中的計(jì)量框架是整個(gè)光刻機(jī)的工作基準(zhǔn)平臺(tái)，尺寸龐大(2.2m′1.9m)，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，僅定位銷孔一百二十多個(gè)；螺紋孔四百多個(gè)；基礎(chǔ)框架是整個(gè)光刻機(jī)的基本支持體，尺寸達(dá)2.75m′1.86m′1.37m，其螺紋孔有三百多個(gè)。計(jì)量框架與基礎(chǔ)框架中對(duì)任何加工部位的位置、形狀、尺寸、表面形貌等要求相當(dāng)高，正常的制造周期為6個(gè)月。